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      從PCB制造到組裝一站式服務(wù)

      堿性蝕刻技術(shù)的過(guò)程及工藝原理

      2013
      03/07
      本篇文章來(lái)自
      捷多邦
        蝕刻是利用干膜、濕膜、錫層、鎳金屬層的抗蝕性能來(lái)保護(hù)有效圖形部分,通過(guò)堿性氯化氨銅溶液蝕去無(wú)抗蝕層保護(hù)的銅面,然后再根據(jù)板的種類以不同處理方法退除抗蝕層,得到所需的圖形線路。
        1內(nèi)層工藝流程
        蝕刻→子液清洗→水洗→退膜→水洗→防氧化→水洗→烘干
        2銅錫板工藝流程
        退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→退錫
        →水洗→烘干→接板
        3鎳金板工藝流程
        退膜→水洗→去膜水洗→中壓水洗→吸干→蝕刻→子液清洗→水洗→吸干→酸洗
        →水洗→烘干→接板
        4簡(jiǎn)單工藝原理
        蝕銅反應(yīng):在蝕刻過(guò)程中,板面上的銅被蝕刻液中的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子氧化,其反應(yīng)如下:
        Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl
        再生反應(yīng):(1)所生成的[Cu(NH3)2]1+為Cu1+的絡(luò)離子,不具有蝕刻能力,在有過(guò)量NH3和Cl-的情況下,能很快被空氣中O2氧化,生成具有蝕刻能力的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子,完成再生反應(yīng)。
        2Cu(NH3)2Cl+2 NH4Cl+2 NH3+1/2 O2→2 Cu(NH3)4Cl2+H2O
      the end